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地址:濟(jì)南市槐蔭區(qū)濟(jì)南寬禁帶半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)園

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  • LPCVD.1.jpg

LPCVD 立式


所屬分類(lèi):

第一代半導(dǎo)體工藝設(shè)備


概要:

? LPCVD設(shè)備是半導(dǎo)體集成電路制造的重要設(shè)備之一, 主要用于多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜的生長(zhǎng),它是將原材料氣體(或者液態(tài)源氣化)用熱能激活發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而在基片表面生成固體薄膜,LPCVD過(guò)程是在低壓下進(jìn)行的,由于氣壓低,氣體分子平均自由程大,使生長(zhǎng)的薄膜均勻性好,此外基片可以豎放使得設(shè)備裝片量大,特別適用于工業(yè)化生產(chǎn)


關(guān)鍵詞:

LPCVD (立式/臥式)



LPCVD 立式


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PECVD 臥式

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